线性渐变透过率薄膜元件是光刻系统中光可变衰减器的关键元件。采用电子束蒸发实现了近线性248 nm渐变透过率光学薄膜的设计与制备......

以对乙酰氧基苯乙烯（ASM）、丙烯酸叔丁酯（TBA）、丙烯酸四氢呋喃酯（TA）和2-甲基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯（MAM）为单体,偶氮二异丁腈（AIBN）为引......

光纤光栅是光纤通信、光纤传感等领域最重要的传感器件之一,采用相位掩膜法刻写光纤光栅时光纤被覆涂层对248nm紫外光均无法有效透......

本文以盐酸羟胺、酸酐及对甲苯磺酰氯为原料合成了三种用于深紫外光刻胶的非离子型产酸剂N-羟基邻苯二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯、N-羟......